Cykl kształcenia: 2012/2013
Nazwa jednostki prowadzącej studia: Wydział Budownictwa, Inżynierii środowiska i Architektury (OS)
Nazwa kierunku studiów: Ochrona środowiska
Obszar kształcenia: nauki techniczne
Profil studiów: ogólnoakademicki
Poziom studiów: pierwszego stopnia
Forma studiów: stacjonarne
Specjalności na kierunku: Ścieżka Kształcenia HEP 1 BW 1, Ścieżka Kształcenia HEP 1 BW 2, Ścieżka Kształcenia HEP 2 BW 1, Ścieżka Kształcenia HEP 2 BW 2
Tytuł otrzymywany po ukończeniu studiów: inżynier
Nazwa jednostki prowadzącej zajęcia: Katedra Prawa i Administracji
Kod zajęć: 104
Status zajęć: obowiazkowy dla programu z możliwością wyboru Ścieżka Kształcenia HEP 1 BW 1, Ścieżka Kształcenia HEP 1 BW 2
Układ zajęć w planie studiów: sem: 1 / W15 / 1 ECTS / Z
Język wykładowy: polski
Imię i nazwisko koordynatora: dr hab. prof. PRz Izabela Oleksiewicz
Główny cel kształcenia: poznanie zasad ochrony własności intelektualnej, umiejętność odróżniania dóbr chronionych prawami wyłącznymi, rozumienie znaczenie ochrony własności intelektualnej
Ogólne informacje o zajęciach: przedmiot należy do grupy treści ogólnych, jest obowiązkowy dla studentów pierwszego semestru z możliwością wyboru
Materiały dydaktyczne: akty normatywne, kazusy
1 | Nowak T. | Ochrona własności intelektualnej. Wybrane zagadnienia | Wydawnictwo Politechniki Białostockiej, Białystok. | 2008 |
2 | Kurzępa B, Kurzępa E. | Ochrona własności intelektualnej. Zarys problemtyki | TNOiK, Toruń. | 2010 |
3 | Ustawa z dnia 4 lutego 1994 r. o prawie autorskim i prawach pokrewnych | stan prawny na bieżący rok | . | |
4 | Ustawa z dnia 30 czerwca 2000 r. Prawo własności przemysłowej | stan prawny na bieżący rok | . |
1 | Golat R. | Prawo autorskie i prawa pokrewne | Wydaw. C.H.Beck, Warszawa. | 2008 |
2 | Nowińska E., Promińska U., du Vall M. | Prawo własności przemysłowej. Przepisy i omówienia | LexisNexis, Warszawa. | 2003 |
Wymagania formalne: brak
Wymagania wstępne w kategorii Wiedzy: brak
Wymagania wstępne w kategorii Umiejętności: brak
Wymagania wstępne w kategorii Kompetencji społecznych: brak
MEK | Student, który zaliczył zajęcia | Formy zajęć/metody dydaktyczne prowadzące do osiągnięcia danego efektu kształcenia | Metody weryfikacji każdego z wymienionych efektów kształcenia | Związki z KEK | Związki z OEK |
---|---|---|---|---|---|
01 | zna podstawowe instytucje prawa własności intelektualnej, | wykład | zaliczenie cz. ustna |
K_W020++ |
T1A_W10++ |
02 | zna cel i zakres ochrony praw autorskich | wykład | zaliczenie cz. ustna |
K_U025++ |
T1A_U10++ |
03 | zna cel i zakres ochrony własności przemysłowej | wykład | zaliczenie cz. ustna |
K_W018++ |
T1A_W08++ T1A_W10++ |
04 | zna ogólne zasady odpowiedzialności cywilnej i karnej z tytułu naruszenia praw własności intelektualnej | wykład | zaliczenie cz. ustna |
K_K001++ K_K003+ |
T1A_K01++ T1A_K02+ T1A_K05+ |
Uwaga: W zależności od sytuacji epidemicznej, jeżeli nie będzie możliwości weryfikacji osiągniętych efektów uczenia się określonych w programie studiów w sposób stacjonarny w szczególności zaliczenia i egzaminy kończące określone zajęcia będą mogły się odbywać przy użyciu środków komunikacji elektronicznej (w sposób zdalny).
Sem. | TK | Treści kształcenia | Realizowane na | MEK |
---|---|---|---|---|
1 | TK01 | - | MEK01 MEK02 MEK03 MEK04 |
Forma zajęć | Praca przed zajęciami | Udział w zajęciach | Praca po zajęciach |
---|---|---|---|
Wykład (sem. 1) | Godziny kontaktowe:
15.00 godz./sem. |
Uzupełnienie/studiowanie notatek:
1.00 godz./sem. Studiowanie zalecanej literatury: 5.00 godz./sem. |
|
Konsultacje (sem. 1) | |||
Zaliczenie (sem. 1) | Przygotowanie do zaliczenia:
5.00 godz./sem. |
Zaliczenie ustne:
2.00 godz./sem. |
Forma zajęć | Sposób wystawiania oceny podsumowującej |
---|---|
Wykład | uzyskanie pozytywnej oceny z zaliczenia ustnego |
Ocena końcowa | uzyskanie pozytywnej oceny z zaliczenia ustnego |
Wymagane podczas egzaminu/zaliczenia
(-)
Realizowane podczas zajęć ćwiczeniowych/laboratoryjnych/projektowych
(-)
Inne
(-)
Czy podczas egzaminu/zaliczenia student ma możliwość korzystania z materiałów pomocniczych : nie